原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機

設(shè)計理念 

 1. SE series可執(zhí)行Thermal-ALD，PEALD，與ALA等*制程。

 2. SE series具有高度的改造彈性，但其性能與穩(wěn)定性并不因此而犧牲。 

3. 原子層沉積系統(tǒng)設(shè)計具有便捷、穩(wěn)定、再現(xiàn)性高的產(chǎn)品定位。

 設(shè)計特點 

 1. 模塊化前驅(qū)物導(dǎo)入系統(tǒng)易于維護、維修與擴充最多4組前驅(qū)物，并可使用 低蒸汽壓前驅(qū)物；分流避免管路堵塞與粉塵問題 

2. 低泄露率特殊設(shè)計，可摒除低劑量污染源影響制程結(jié)果 

3. 滿足現(xiàn)行多數(shù)材料制程需求： Oxide or nitride of Al，Si，Ti，Zr，Hf，etc..Metal(TBD) 4. 單系統(tǒng)寬54cm內(nèi)，實驗室友好尺寸 

5. 特殊電漿源設(shè)計(Remote plasma)可提升GPC 6%(相較于ICP) 

6. 特殊進氣設(shè)計改善均勻性(U%<2%)針對死角殘留問題進行特殊設(shè)計

原子層沉積系統(tǒng)鍍膜機